抛光加工技术
抛光(polishing)不仅增加工件的美观，而且能够改善材料表面的耐蚀性、耐磨性及获得特 殊性能。在电子设备、精密机械、仪器仪表、光学元件、医疗器械等领域应用广泛。抛光既可作 为工件的最终工序，也可用于镀膜前的表面预处理。抛光的质量对工件的使用性能有直接的 影响。选择合适的抛光方法和工艺是提高产品质量的重要手段。
抛光加工的定义
抛光是用高速旋转的低弹性材料(棉布、毛毡、人造革等)抛光盘，或用低速旋转的软质弹 性或粘弹性材料(塑料、沥青、石蜡等)抛光盘，加抛光剂，具有一定研磨性质的获得光滑加工表 面的加工方法。抛光加工，又称镜面加工，是制造平坦而且加工变形层很小，没有擦痕的平面 加工工艺。
抛光和研磨在磨料和研具材料的选择上不同。抛光通常使用的是1 以下的微细磨 粒,抛光盘用沥青、石蜡、合成树脂、人造革和锡等软质金属或非金属材料制成。在抛光过程 中，除机械切削作用外，加工氛围的化学反应起了重要作用。而研磨使用比较硬的金属盘作研 具，材料的破坏以微小破碎为主。
抛光加工的方法有很多，主要有机械抛光、化学抛光、化学机械抛光、液体抛光和电解抛光 加工等。近代发展的抛光加工方法还有浮动抛光、水合抛光、磁流体抛光和磁悬浮抛光等。
机械抛光
机械抛光是传统的抛光方法即钳工用锉刀、砂纸、油石、帆布、毛毡或皮带等工具手工操作 所进行的修磨抛光，或用电动工具等借助机械动力（钢丝轮或弹性抛光盘等）所进行的手工打 磨、机械研磨。它们可对平面、外圆、沟槽等进行抛光。抛光磨料可用氧化铬、氧化铁等，也可 按一定化学成分比例配制成的研磨膏。抛光过程中虽不易保证均匀地切下金属层，但在单位 时间内切下的金属却是较多的，每分钟可以切下十分之几毫米厚的金属层。
化学抛光
化学抛光，一般使用硝酸或磷酸等氧化剂溶液,在一定的条件下，使工件表面氧化，此氧化 层又能逐渐溶入溶液，表面微凸起处氧化较快而较多，而微凹处则被氧化慢而少。同样凸起处 的氧化层又比凹处更多、更快地扩散、溶解于酸型溶液中，因此使加工表面逐渐被整平，达到改 善工件表面粗糙度或使表面平滑化和光泽化的目的。
化学抛光可以大面或多件抛光薄壁、低刚度工件，可以抛光内表面和形状复杂的工件，不 需要外加电源、设备，操作简单、成本低。其缺点是化学抛光效果比电解抛光效果差，而且抛光 液用后处理较麻烦。
金属的化学抛光，常用硝酸、磷酸、硫酸、盐酸等酸性溶液抛光铝、铝合金、钼、钼合金，碳钢 及不锈钢等。有时还加人明胶或甘油之类。抛光时必须严格控制溶液温度和时间。温室从室 温到90 °C，时间自数秒到数分钟，要根据材料、溶液成分经实验后才能确定最佳值。
半导体材料的化学抛光，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，还要最终用化学抛光 去除表面杂质和变质层。常用氢氟酸和硝酸、硫酸混合溶液或双氧水和氢氧化铵的水溶液。
化学机械抛光
化学机械抛光技术是化学作用和机械作用相结合的技术，其过程相当复杂，影响因素很 多。首先工件表面材料与抛光液中的氧化剂、催化剂等发生化学反应，生成一层相对容易去除 的软质层，然后在抛光液中的磨料和抛光垫的机械作用下去除软质层，使工件表面重新裸露出 来，然后再进行化学反应，这样在化学作用过程和机械作用过程的交替进行中完成工件表面
抛光。
液体抛光（液体喷砂）
液体抛光是将含磨料的磨削液，经喷嘴用6〜8 kPa,高速喷向加工表面，磨料颗粒就能将 原来已加工过工件表面上的凸峰击平，而得到极光滑的表面。液体抛光之所以能降低加工表 面粗糙度，主要是由于磨料颗粒对表面微观凸峰高频（200〜500万次/秒）及髙压的冲击的结 果。当然液体抛光和其他抛光方法一样，只能降低工件的表面粗糙度，而不能提高尺寸和形状 精度。但是，液体抛光的生产率极高，表面粗糙度可达到民= 0.4〜0.1 Ami,并且不受工件形 状的限制，可以对某些其他光整加工方法无法加工的部位（如内燃机进油管内壁)进行抛光，这 是其他抛光方法所不及的独特长处。
电解抛光
电解抛光原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。 与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电解抛光过程分为两步：
①宏观整平，溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙度下降，民>1
②微观整平，阳极极化，表面光亮度提髙，1^<1
抛光加工的特点
抛光加工主要有以下几方面特点：
①作为工件表面最终的光饰加工，使工件获得光亮光滑的表面，增加美观。
②去除前道工序的加工痕迹，如刀痕、磨纹、划印、麻点、尖棱、毛刺等，改善表面质量。抛 光后，工件表面粗糙度可达到0. 4 以下。
③提高工件抗疲劳和抗腐蚀性能。
④可以作为油漆、电镀等工序的准备工序。抛光可提供漆膜、镀层附着能力强的表面，以 提高油漆、电镀的质量。
⑤应用范围广。从金属件到非金属制品，从精密机电产品到日常生活用品，都能采用抛 光来提高表面质量^
⑥不能提高尺寸和形状精度，甚至不能保持工件原有精度。但近代发展的抛光方法如浮 动抛光、水合抛光等可以提高尺寸精度和形状精度。
抛光加工要素与工艺
抛光的加工要素与研磨基本相同，研磨时有研具，抛光时有抛光盘(或称抛光工具）。抛光 时所用的抛光盘一般是软质的。其塑性流动作用和微切削作用较强，其加工效果主要是降低 表面粗糙度。研磨时所用的研具一般是硬质的，其微切削作用、挤压塑性变形作用较强，在精 度和表面粗糙度两个方面都强调要有加工效果。近年来，出现了用橡胶、塑料等制成的抛光盘 或研具，它们是半硬半软的，既有研磨作用，又有抛光作用，因此是研磨和抛光的复合加工，可
以称之为研抛，这种方法能提高加工精度和降低表面粗糙度，而且有很高的效率。考虑到这一 类加工方法所用的研具或抛光器总是带有柔性的，故都归于抛光加工一类。
.抛光盘
抛光盘材料通常都要采取不同的处理方法，如漂白、上浆、上蜡、浸脂或浸泡药物等，以提 高对抛光剂的保持性，增强刚性，延长使用寿命，改善润滑或防止过热燃烧等。但处理时务必 注意不要使处理用的材料黏附到工件表面上，否则难以去掉。